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PerfectSil™ Target HD
● Sehr aufwändiges Endcapping
● Maximale Abschirmung der Silica-Oberfläche
● Erhältlich mit C8 & C18-Modifizierung
● Stabil von pH 2 bis pH 11
● Hervorragende chemische Stabilität
● Erweiterter Einsatzbereich
● Bestens geeignet für LC/MS
● Excellente Peaksymmetrien bei basischen 
   Substanzen 

● Ausgezeichnete Reproduzierbarkeit Batch zu 
   Batch & Säule zu Säule
● Ermöglicht sehr steile Gradienten
● Hochreines Basismaterial 99,999 %
● Erhältlich in 3 µm & 5 µm Korngröße
● Hohe mechanische Stabilität
● Jede Säule einzeln getestet
● Hochwertige State-of-the-Art Säulenhardware mit 
   Refill-Garantie
● Lieferung mit Original-Testzertifikat mit 
   garantierten Spezifikationen

Datenblatt: [English][Deutsch]  
   
PerfectSil™ Target HD: Modifizierungen und Technische Daten
PerfectSil Target HD™ Korngröße Endcapping C-Gehalt
USP<621> BET-Oberfläche Porengröße Porenvolumen
Silica
Reinheit
Code
PerfectSil Target ODS-3 HD
3 µm + 25 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999%
0833
PerfectSil Target ODS-3 HD
5 µm + 25 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999%
0831
PerfectSil Target ODS-3 HD
10 µm + 25 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0830
PerfectSil Target C8-3 HD
3 µm + 15 %
L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0843
PerfectSil Target C8-3 HD  
5 µm + 15 %
L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0845

 


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