● Sehr aufwändiges Endcapping
● Maximale Abschirmung der Silica-Oberfläche
● Erhältlich mit C8 & C18-Modifizierung
● Stabil von pH 2 bis pH 11
● Hervorragende chemische Stabilität
● Erweiterter Einsatzbereich
● Bestens geeignet für LC/MS
● Excellente Peaksymmetrien bei basischen
Substanzen
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● Ausgezeichnete Reproduzierbarkeit Batch zu
Batch & Säule zu Säule
● Ermöglicht sehr steile Gradienten
● Hochreines Basismaterial 99,999 %
● Erhältlich in 3 µm & 5 µm Korngröße
● Hohe mechanische Stabilität
● Jede Säule einzeln getestet
● Hochwertige State-of-the-Art Säulenhardware mit
Refill-Garantie
● Lieferung mit Original-Testzertifikat mit
garantierten Spezifikationen
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PerfectSil™ Target HD: Modifizierungen und Technische Daten
| PerfectSil Target HD™ |
Korngröße |
Endcapping |
C-Gehalt
|
USP<621> |
BET-Oberfläche |
Porengröße |
Porenvolumen
|
Silica
Reinheit |
Code |
PerfectSil Target ODS-3 HD
|
3 µm |
+ |
25 %
|
L1 |
450 m2/g |
100 Å |
1,1 ml/g |
99,999%
|
0833
|
PerfectSil Target ODS-3 HD
|
5 µm |
+ |
25 %
|
L1 |
450 m2/g |
100 Å |
1,1 ml/g |
99,999%
|
0831
|
PerfectSil Target ODS-3 HD
|
10 µm |
+ |
25 %
|
L1 |
450 m2/g |
100 Å |
1,1 ml/g |
99,999% |
0830
|
PerfectSil Target C8-3 HD
|
3 µm |
+ |
15 %
|
L7 |
450 m2/g |
100 Å |
1,1 ml/g |
99,999% |
0843
|
PerfectSil Target C8-3 HD
|
5 µm |
+ |
15 %
|
L7 |
450 m2/g |
100 Å |
1,1 ml/g |
99,999% |
0845
|
|