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PerfectSil™ Target: Mit exzellenter Performance und Peaksymmetrie direkt zum Ziel
● Modifizierungen: Sil • ODS-3 • C8-3 • CN-3 
● Erhältlich in 3 µm & 5 µm Korngröße
● Hochreines Basismaterial 99,999 %
● Extrem hohe mechanische & chemische Stabilität
● Aufwändiges Endcapping 

● Excellente Peaksymmetrien bei basischen 
   Substanzen
● Jede Säule einzeln getestet 
● Bestens geeignet für LC/MS
● Ausgezeichnete Reproduzierbarkeit 
● Hergestellt unter ISO 9001-zertifizierten 
   Bedingungen

Datenblatt: [English][Deutsch]  
   
PerfectSil™ Target: Modifizierungen und Technische Daten

PerfectSil Target™ Korngröße Endcapping C-Gehalt
USP<621> BET-Oberfläche Porengröße Porenvolumen
Silica
Reinheit
Code
PerfectSil Target Sil 100
3 µm - 0,0 %
L3 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999%
0803
PerfectSil Target Sil 100
5 µm - 0,0 %
L3 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999%
0800
PerfectSil Target ODS-3
3 µm + 17 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0802
PerfectSil Target ODS-3
5 µm + 17 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0801
PerfectSil Target ODS-3  
10 µm + 17 %
L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0806
PerfectSil Target C8-3
3 µm + 9 %
L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0812
PerfectSil Target C8-3
5 µm + 9 % L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0811
PerfectSil Target CN-3
5 µm - 7 % L10
450 m2/g 100 Å  1,1 ml/g 99,999% 0818
 



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